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日本イットリウム株式会社

法人番号:1290001054214

日本イットリウム株式会社は、 福岡県大牟田市大字唐船2081番地398にある法人です。 1966年に設立されました。

基本情報

法人番号
1290001054214
法人名称/商号
日本イットリウム株式会社
法人名称/商号(カナ)
ニッポンイットリウム
法人名称/商号(英語)
-
所在地
〒8360003
福岡県大牟田市大字唐船2081番地398
代表者
-
資本金
-
従業員数

-

営業品目
非鉄金属・金属製品類 、 その他 、 非鉄金属・金属製品類 、 その他 、 その他
事業概要

-

設立年月日
1966年04月23日
創業年
-
データ最終更新日
2018年04月16日

届出認定情報

  • 2021年08月22日

    PRTR

    化学工業

    部門:経済産業大臣

    企業規模: 大企業

    府省:経済産業省

特許情報

  • 特許 2014542040

    2014年05月13日
    特許分類
    C01F 17/00
    無機化学
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    プラズマ溶射用スラリー

  • 特許 2014542040

    2014年05月13日
    特許分類
    C01F 17/00 D
    無機化学
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    プラズマ溶射用スラリー

  • 特許 2014542040

    2014年05月13日
    特許分類
    C23C 4/04
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    プラズマ溶射用スラリー

  • 特許 2014542040

    2014年05月13日
    特許分類
    C23C 4/10
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    プラズマ溶射用スラリー

  • 特許 2014162912

    2014年08月08日
    特許分類
    C23C 4/04
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料

  • 特許 2014236303

    2014年11月21日
    特許分類
    C04B 35/00 U
    セメント; コンクリ-ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4G030

    発明の名称

    焼結体

  • 特許 2014236303

    2014年11月21日
    特許分類
    C04B 35/553
    セメント; コンクリ-ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4G030

    発明の名称

    焼結体

  • 特許 2014236303

    2014年11月21日
    特許分類
    H01L 21/302 101G
    基本的電気素子
    テーマコード
    4G030

    発明の名称

    焼結体

  • 特許 2014236303

    2014年11月21日
    特許分類
    H01L 21/3065
    基本的電気素子
    テーマコード
    4G030

    発明の名称

    焼結体

  • 特許 2015013418

    2015年01月27日
    特許分類
    C01F 17/00
    無機化学
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射用粉末及び溶射材料

  • 特許 2015013418

    2015年01月27日
    特許分類
    C01F 17/00 A
    無機化学
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射用粉末及び溶射材料

  • 特許 2015013418

    2015年01月27日
    特許分類
    C23C 4/10
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射用粉末及び溶射材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C01F 17/00
    無機化学
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C01F 17/00 D
    無機化学
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C23C 4/04
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C23C 14/24
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C23C 14/24 E
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C23C 14/34
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C23C 14/34 A
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016524155

    2016年02月02日
    特許分類
    C23C 24/04
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4G076

    発明の名称

    成膜用粉末及び成膜用材料

  • 特許 2016540094

    2016年02月26日
    特許分類
    C01F 17/00
    無機化学
    テーマコード
    4G031

    発明の名称

    焼結用材料及び焼結用材料を製造するための粉末

  • 特許 2016540094

    2016年02月26日
    特許分類
    C01F 17/00 D
    無機化学
    テーマコード
    4G031

    発明の名称

    焼結用材料及び焼結用材料を製造するための粉末

  • 特許 2016540094

    2016年02月26日
    特許分類
    C04B 35/00 108
    セメント; コンクリ-ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4G031

    発明の名称

    焼結用材料及び焼結用材料を製造するための粉末

  • 特許 2016540094

    2016年02月26日
    特許分類
    C04B 35/50
    セメント; コンクリ-ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4G031

    発明の名称

    焼結用材料及び焼結用材料を製造するための粉末

  • 特許 2016540094

    2016年02月26日
    特許分類
    C04B 35/632
    セメント; コンクリ-ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4G031

    発明の名称

    焼結用材料及び焼結用材料を製造するための粉末

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C01F 17/00
    無機化学
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C01F 17/00 D
    無機化学
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C04B 35/505
    セメント; コンクリ-ト; 人造石; セラミックス; 耐火物
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C23C 14/06
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C23C 14/06 K
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C23C 14/24
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C23C 14/24 E
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C23C 14/32
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    C23C 14/32 Z
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    H01L 21/302 101G
    基本的電気素子
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2017559715

    2017年08月07日
    特許分類
    H01L 21/3065
    基本的電気素子
    テーマコード
    4K029

    発明の名称

    成膜用材料及び皮膜

  • 特許 2012144462

    2012年06月27日
    特許分類
    C23C 4/10
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料及びその製造方法

  • 特許 2012265127

    2012年12月04日
    特許分類
    C23C 4/04
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料

  • 特許 2013007751

    2013年01月18日
    特許分類
    C01F 17/00
    無機化学
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料

  • 特許 2013007751

    2013年01月18日
    特許分類
    C01F 17/00 D
    無機化学
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料

  • 特許 2013007751

    2013年01月18日
    特許分類
    C23C 4/04
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料

  • 特許 2013007751

    2013年01月18日
    特許分類
    C23C 4/10
    金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
    テーマコード
    4K031

    発明の名称

    溶射材料