株式会社ワコム研究所

基本情報

法人番号

2010001060841

法人名称/商号

株式会社ワコム研究所

法人名称/商号（カナ）

ワコムケンキュウショ

法人名称/商号（英語）

-

所在地

〒1030022
東京都中央区日本橋室町４丁目２番１６号

代表者

-

資本金

-

従業員数

-

営業品目

-

事業概要

-

設立年月日

-

創業年

-

データ最終更新日

2021年05月06日

特許情報

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  C23C 16/42
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  C23C 16/455
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  C23C 16/505
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 21/205
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 21/31
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 21/31 C
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 31/04
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 31/04 F
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2012546277

  2012年05月31日

  特許分類

  H05H 1/24
  他に分類されない電気技術

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  C23C 16/42
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  C23C 16/503
  金属質材料への被覆; 金属質材料による材料への被覆; 化学的表面処理; 金属質材料の拡散処理; 真空蒸着, スパッタリング, イオン注入法, または化学蒸着による被覆一般; 金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 21/31
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 21/31 C
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 31/04 424
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  H01L 31/18
  基本的電気素子

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法

• 特許　2016235463

  2012年05月31日

  特許分類

  H05H 1/30
  他に分類されない電気技術

  テーマコード

  5F045

  発明の名称

  ＣＶＤ装置、及び、ＣＶＤ膜の製造方法