岩井ファルマテック株式会社

基本情報

法人番号

2010701007002

法人名称/商号

岩井ファルマテック株式会社

法人名称/商号（カナ）

イワイファルマテック

法人名称/商号（英語）

-

所在地

〒1440033
東京都大田区東糀谷３丁目１７番１０号

代表者

-

資本金

-

従業員数

-

営業品目

-

事業概要

-

設立年月日

-

創業年

-

データ最終更新日

2019年01月08日

特許情報

• 特許　2015030063

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/72
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030063

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/76
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030063

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/76 A
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030063

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/78
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030063

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/78 Z
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030064

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/72
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030064

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/76
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030064

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/76 A
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030064

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/78
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015030064

  2015年02月18日

  特許分類

  B67D 7/78 Z
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液方法及び送液装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B01J 4/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B01J 4/00 103
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B08B 3/04
  清掃

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B08B 3/04 Z
  清掃

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B08B 9/032
  清掃

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B08B 9/032 325
  清掃

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2015218583

  2015年11月06日

  特許分類

  B08B 9/032 327
  清掃

  テーマコード

  3B116

  発明の名称

  液体製品の原料供給装置

• 特許　2016213647

  2016年10月31日

  特許分類

  B01J 4/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液システム

• 特許　2016213647

  2016年10月31日

  特許分類

  B01J 4/00 103
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液システム

• 特許　2016213647

  2016年10月31日

  特許分類

  F17D 1/12
  ガスまたは液体の貯蔵または分配

  テーマコード

  3E083

  発明の名称

  送液システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 24/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/00 D
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/00 E
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/10 510C
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/10 520Z
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/10 530A
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 29/11
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 35/02
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 35/02 A
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  B01D 65/10
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  F17D 5/02
  ガスまたは液体の貯蔵または分配

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  G01M 3/26
  測定; 試験

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2016225432

  2016年11月18日

  特許分類

  G01M 3/26 M
  測定; 試験

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 24/48
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/10 510C
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/10 520Z
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/10 530A
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/11
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/36 Z
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/42 501C
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/60
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B01D 29/90
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B67D 7/72
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B67D 7/76
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  B67D 7/76 D
  びん, 広口びんまたは類似の容器の開封または密封; 液体の取扱い

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017016105

  2017年01月31日

  特許分類

  F17D 1/14
  ガスまたは液体の貯蔵または分配

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の処理システム

• 特許　2017118096

  2017年06月15日

  特許分類

  B01D 27/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D116

  発明の名称

  プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム

• 特許　2018154999

  2018年08月21日

  特許分類

  G05B 19/05
  制御; 調整

  テーマコード

  5H220

  発明の名称

  医薬品又は飲料食品の製造プラントの制御システム

• 特許　2018154999

  2018年08月21日

  特許分類

  G05B 19/05 F
  制御; 調整

  テーマコード

  5H220

  発明の名称

  医薬品又は飲料食品の製造プラントの制御システム

• 特許　2019027799

  2019年02月19日

  特許分類

  C07K 1/04
  有機化学

  テーマコード

  4H045

  発明の名称

  ペプチド製造システム

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 1/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 1/00 B
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 3/04
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 3/04 A
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 5/06
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 510A
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 520C
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 530A
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 530K
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007219

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 530L
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4G035

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 1/00
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  B01F 1/00 B
  物理的または化学的方法または装置一般

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 510Z
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 520C
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 530A
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 530K
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置

• 特許　2010007222

  2010年01月15日

  特許分類

  C02F 1/68 530L
  水, 廃水, 下水または汚泥の処理

  テーマコード

  4D039

  発明の名称

  超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置